美国颇尔PALL VRC12R7X3M 半导体真空系统滤芯更换案例 应用场景：晶圆镀膜设备真空系统滤芯更换

 

美国颇尔PALL VRC12R7X3M 半导体真空系统滤芯更换案例

应用场景：晶圆镀膜设备真空系统滤芯更换

某外延片厂真空系统（10⁻⁵Pa）采用 VRC12R7X3M（0.3μm）316L 滤芯。原滤芯 VOC 释放高、污染晶圆。2024 年 6 月更换：破真空→清洁腔体→安装新滤芯→检漏→抽真空→烘烤→监测压差。初始压差极低，寿命 12 个月。腔室颗粒＜0.1pcs/m³，晶圆缺陷率降 85%。更换高温脱气处理，VOC＜0.01mg/m³，无二次污染。